賽奧特（SAT)/等離子表面處理設備/SAT 520

一 應用領域 

賽奧特（SAT)/等離子表面處理設備/SAT 520適用于材料科學、光學、光電子學、生命科學、電子學、生物醫(yī)學、半導體、高分子科學、微觀流體學等領域.

二 主要實驗應用  1.表面清潔 2.表面活化 3.鍵合 4.去膠 5.金屬還原 6.簡單刻蝕 7.去除表面有機物  8.疏水實驗  9.沉積實驗  10.形成新的基團  11.鍍膜前處理等

三 技術(shù)特點 

※1.實時檢測和顯示真空度,使得設備在智能控制下有了可靠的依據(jù).

※2.真空值可自由設定,(范圍:10—60帕)為外加氣體提供了可靠的輝光啟動環(huán)境,為輝光純度提供了有利的保障,保證了實驗效果的準確性和可靠性.

3.真空腔體采用鉸鏈側(cè)開門結(jié)構(gòu)，帶有觀察窗，材料為6061材質(zhì).

4.腔體、管路、閥體全部為不銹鋼材料.

※5.電容式（CCP）激發(fā),實驗效果穩(wěn)定,均勻可靠,電極板置于樣品倉內(nèi)頂部懸掛.

6.采用觸摸屏顯示控制，手動，自動兩種模式任意切換.

7.程序化設計，預先編輯好程序，儀器自動完成實驗.

8.利用氣體電離后產(chǎn)生的等離子體的反應活性與材料表面發(fā)生的物理或者化學反應，使材料表面成分、組成和結(jié)構(gòu)發(fā)生變化，并能得到某些特定的基團。

9.無需耗材,使用成本低,無需特殊進行維護,在日常使用中保持儀器清潔即可。

四 技術(shù)規(guī)格 

1.樣品腔體尺寸：255(深度)X155（直徑）mm ，不銹鋼材質(zhì).

2.放置樣品托盤尺寸:150(寬)X230（長）mm，材質(zhì)：6061鋁氧化本色

※3.射頻頻率：13.56MHz，配置自動匹配器.

※4.射頻功率:150W，0到150W可調(diào)，精度：1瓦.

※5.輝光放電功率：10W--150W

6.輝光放電時間設定：1秒到99分59秒.

※7.氣路設置:3氣路（2路進氣，一路放空）.

※8.工作氣體穩(wěn)定時間:可調(diào)，可設定，范圍：0--180秒.

※9.進氣控制：兩路浮子流量計控制.

10.工作氣體:空氣\氮氣\氬氣\氮氫混合氣\氬氦混合氣等均可; 也可接入無腐蝕性、無毒的工作液體溶液，例如:六甲基二硅氧烷(HMDSO)，接入工作液體需要選配接枝儀來配套使用。

11.進氣壓力：通入空氣時常壓，接入鋼瓶時，鋼瓶進氣壓力調(diào)整到0.1-0.2Mpa

12.供電電源：~220V／50Hz

13.外形尺寸（寬*深*高）mm:440ⅹ490ⅹ485

14.整機重量（約）：30Kg

五 真空泵

標準配置為機械油泵：1）抽速:2升/秒 2）極限壓強：6*10-2帕   3）噪音;≤66db 4）抽氣KF16法蘭接口，排氣口KF25接口 5）電源線為陰插線

六 基本配置 

主機+真空系統(tǒng)（雙極機械真空油泵、油霧過濾器、真空管、KF16法蘭）、外加氣體軟管、樣品托盤、說明書、電源線、合格證

七選配件

（一）機械油泵   型號：VRD-8 

1.抽速:2.2升/秒   2.極限壓強：≤5*10-2帕   3.噪音;≤56db   4.工作環(huán)境溫度：5—45

（二）干泵（1）  型號：GWSP150

1.抽速:2升/秒  2.極限壓強：≤6帕    3.噪音;≤57db    

4.工作環(huán)境溫度：5--45℃ 

     干泵（2）型號： SPH10

1.抽速:2.8升/秒  2.極限壓強：≤2帕  3.噪音;≤55db

4.工作環(huán)境溫度：5--45℃